Holistic approach for overlay and edge placement error to meet the 5nm technology node requirements

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标题	Holistic approach for overlay and edge placement error to meet the 5nm technology node requirements 满足5nm技术节点要求的覆盖和边缘放置误差的整体方法相关领域覆盖极紫外光刻平版印刷术计量学计算机科学光刻多重图案 GSM演进的增强数据速率临界尺寸光学节点（物理）不确定性传播过程（计算）下一代光刻电子束光刻电子工程材料科学抵抗算法纳米技术物理计算机视觉工程类程序设计语言操作系统量子力学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.2297283
DOI	10.1117/12.2297283 doi
其它	期刊：作者：Jan Mulkens; Bram Slachter; Michael Kubis; Wim Tel; Paul Hinnen; et al 出版日期：2018-03-13
求助人	kuxingzhe1993 在 2024-05-10 14:09:16 发布自山东，悬赏 20 积分
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