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 Enhanced Performance and Gate Bias Stress Stability of Atomic-Layer-Deposited Amorphous Zn–Sn–O Thin-Film Transistors with HfO2 and Al-Doped TiO2 Interlayers on SiO2 Gate Oxide 相关领域
薄膜晶体管
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期刊：ACS applied electronic materials 作者：Jinheon Choi; Jaesoon Choi; Tae Kyun Kim; Yonghee Lee; Sukin Kang; et al 出版日期：2025-01-02 |
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