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标题
Process Flow Modelling and Characterisation of Stacked Gate-All-Around Nanosheet Transistors
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/9928528/9928587/09928725...
DOI
10.1109/nano54668.2022.9928725 doi
其它 期刊：2022 IEEE 22nd International Conference on Nanotechnology (NANO)
作者：K. Mumba; S. Cai; K. Kalna
出版日期：2022-07-04
求助人
明亮的小蘑菇 在 2026-07-22 22:48:41 发布自中国香港，悬赏 10 积分
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  • 6小时前

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  • 6小时前

    明亮的小蘑菇 明亮的小蘑菇 Lv4 求助人 发起了本次求助

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