Atomic layer deposition of boron nitride using sequential exposures of BCl3 and NH3

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标题	Atomic layer deposition of boron nitride using sequential exposures of BCl3 and NH3
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S004060900...
DOI	10.1016/s0040-6090(02)00431-5 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：J. Ferguson; A. Weimer; S. George 出版日期：2002-06-24
求助人	uranus 在 2026-07-09 15:31:48 发布自上海，悬赏 10 积分
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