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  On the role of target mass in extreme ultraviolet light generation from CO2-driven tin plasmas for nanolithography 纳米光刻用CO2驱动锡等离子体产生极紫外光中靶质量的作用
相关领域
物理
极端紫外线
纳米光刻
等离子体
锡
极紫外光刻
紫外线
原子物理学
光电子学
光学
激光器
核物理学
医学
制作
替代医学
材料科学
病理
冶金
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| 其它 |
期刊：Physics of Plasmas 作者：J. González; John Sheil 出版日期：2024-05-01 |
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