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Atomic Layer Deposition of HfO2 Thin Films Employing a Heteroleptic Hafnium Precursor |
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期刊:Chemical Vapor Deposition 作者:Ke Xu; Andrian P. Milanov; Harish Parala; Christian Wenger; Canan Baristiran‐Kaynak; et al 出版日期:2012-03-06 |
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(2025-6-4)