Multidimensional validation of low-damage BCl3/Ar atomic layer etching for AlGaN/GaN HEMTs

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标题	Multidimensional validation of low-damage BCl3/Ar atomic layer etching for AlGaN/GaN HEMTs
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S136980012...
DOI	10.1016/j.mssp.2025.109742 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Boxuan Gao; Jiejie Zhu; Mengdi Li; Lingjie Qin; Yuchen Qian; et al 出版日期：2025-06-10
求助人	lmq 在 2026-02-22 15:22:31 发布自浙江，悬赏 10 积分
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