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Properties of SiO N thin film deposited by low temperature plasma enhanced chemical vapor deposition using TEOS–NH3–O2–N2 gas mixtures |
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期刊:Surface and Coatings Technology 作者:J.H. Lee; C.H. Jeong; J.T. Lim; N.G. Jo; S.J. Kyung; G.Y. Yeom 出版日期:2005-04-15 |
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