Ultrathin Titanium Dioxide Nanolayers by Atomic Layer Deposition for Surface Passivation of Crystalline Silicon

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标题	Ultrathin Titanium Dioxide Nanolayers by Atomic Layer Deposition for Surface Passivation of Crystalline Silicon 原子层沉积超薄二氧化钛纳米层用于晶体硅表面钝化相关领域钝化硅图层（电子）材料科学钛二氧化硅二氧化钛原子层沉积沉积（地质）化学工程纳米技术分析化学（期刊）光电子学有机化学化学复合材料冶金古生物学沉积物工程类生物
网址	https://doi.org/10.1109/jphotov.2016.2545404
DOI	10.1109/jphotov.2016.2545404 doi
其它	期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Karim M. Gad; Daniel Vössing; Armin Richter; Bruce Rayner; Leonhard Reindl; et al 出版日期：2016-04-09
求助人	涪城的涪在 2025-08-05 10:11:05 发布自四川，悬赏 10 积分
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