| 标题 |
 Interdot Coupling in a Si-Based Coupled Double dot Device 硅基耦合双点器件中的点间耦合
相关领域
联轴节（管道）
量子点
光电子学
物理
材料科学
冶金
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Seung‐Jun Shin; J. J. Lee; R. S. Chung; M. S. Kim; E. S. Park; et al 出版日期：2007-05-15 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Kao
毛豆
Copyright
GingerF
cdercder
yjh123
Criminology34
东方元语
YifanWang
NYX
学术文献互助
arniu2008
Oracle
MchemG
Nexus
BigTong
竹青
hui_zhou
水水的
keven
皖公网安备34019202002308
