Selective Etching of Phosphosilicate Glass with Low Pressure Vapor HF

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标题	Selective Etching of Phosphosilicate Glass with Low Pressure Vapor HF 低压蒸汽HF选择性刻蚀磷硅酸盐玻璃相关领域氧化物蚀刻（微加工）蒸汽压图层（电子）缓冲氧化物腐蚀材料科学化学水蒸气分压硅水蒸汽压分析化学（期刊）无机化学化学工程反应离子刻蚀复合材料光电子学冶金氧气有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1149/1.2043880
DOI	10.1149/1.2043880 doi
其它	期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：Heiji Watanabe; Shuhei Ohnishi; Itaru Honma; Hiroshi Kitajima; Hiroakira Ono; et al 出版日期：1995-01-01
求助人	nico 在 2024-04-19 15:35:39 发布自湖南，悬赏 10 积分
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