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Exploring oxide-nitride-oxide scalloping behavior with small gap structure and chemical analysis after fluorocarbon or hydrofluorocarbon plasma processing
氟碳或氢氟碳等离子体处理后氧化物——氮化物——氧化物小间隙扇形行为的探索及化学分析
相关领域
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期刊:Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics 作者:Chung Sm; Pingshan Luan; Minjoon Park; Andrew Metz; G. S. Oehrlein 出版日期:2023-09-25 |
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