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标题
Hole and positron interaction with vacancies and p-type dopants in epitaxially grown silicon
外延生长硅中空穴和正电子与空位和p型掺杂剂的相互作用
相关领域
外延 掺杂剂 硅 材料科学 正电子 结晶学 兴奋剂 凝聚态物理 光电子学 化学 纳米技术 物理 电子 核物理学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1063/5.0179101
DOI
10.1063/5.0179101 doi
其它 期刊：Journal of Applied Physics
作者：Fabio Isa; J. A. Schmidt; S. Aghion; E. Napolitani; Giovanni Isella; et al
出版日期：2024-04-24
求助人
荟萃分析 在 2025-08-30 03:06:21 发布，悬赏 10 积分
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