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标题
Multi-color approach on self-aligned multiple patterning for single line cut application
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浸没式光刻 极紫外光刻 多重图案 平版印刷术 收缩率 抵抗 光刻 节点（物理） 材料科学 晶体管 生产线后端 下一代光刻 光电子学 计算机科学 线条宽度 纳米技术 光学 物理 电气工程 电子束光刻 工程类 图层（电子） 声学 复合材料 电压 电介质
网址
https://doi.org/10.1117/12.2299653
DOI
10.1117/12.2299653 doi
其它 期刊：
作者：Richard A. Farrell; Chia‐Yun Hsieh; Eric Liu; Akiteru Ko; Peter Biolsi; et al
出版日期：2018-03-19
求助人
HappyFlight9898 在 2025-10-16 19:09:17 发布自安徽，悬赏 20 积分
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