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标题
Thermal stress reliability of copper through silicon via interconnects for 3D logic devices
三维逻辑器件铜硅通孔互连的热应力可靠性
相关领域
材料科学 热膨胀 MOSFET 通过硅通孔 可靠性(半导体) 泄漏(经济) 压力(语言学) 绝缘体上的硅 光电子学 大气温度范围 热的 半导体器件 电子工程 基质(水族馆) 复合材料 晶体管 冶金 电气工程 工程类 图层(电子) 电压 功率(物理) 经济 气象学 宏观经济学 哲学 地质学 物理 海洋学 量子力学 语言学
网址
DOI
10.1109/eptc.2016.7861455 doi
其它 期刊:2022 IEEE 24th Electronics Packaging Technology Conference (EPTC)
作者:Hideki Kitada; Hiroko Tashiro; Shoichi Miyahara; Aki Dote; Shinji Tadaki; et al
出版日期:2016-11-01
求助人
王不王 在 2025-08-06 20:21:31 发布自中国,悬赏 10 积分
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