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 Effect of Particle Size Distribution, pH, and Na+ Concentration on the Chemical Mechanical Polishing of Sapphire and 4H-SiC (0001) 粒度分布、pH和Na+浓度对蓝宝石和4H-SiC化学机械抛光的影响（0001）
相关领域
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Weilei Wang; Qiufeng Xu; Weili Liu; Zhitang Song 出版日期：2022-03-30 |
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