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标题
Reinforcement in electromigration reliability of Cu interconnects by alloying of extremely dilute MnO
极稀MnO合金化增强Cu互连电迁移可靠性
相关领域
电迁移 材料科学 互连 可靠性(半导体) 沟槽 空隙(复合材料) 图层(电子) 电流密度 电镀(地质) 光电子学 复合材料 计算机科学 物理 量子力学 地质学 功率(物理) 计算机网络 地球物理学
网址
DOI
10.1016/j.jallcom.2023.169974 doi
其它 期刊:Journal of Alloys and Compounds
作者:Jau–Shiung Fang; Ching‐En Lee; Yi-Lung Cheng; Giin-Shan Chen
出版日期:2023-08-01
求助人
viper3 在 2024-03-21 15:26:43 发布自福建,悬赏 20 积分
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