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 Influence of deposition temperature and precursor pulse time on properties of SiO2, HfO2 monolayers deposited by PEALD 沉积温度和前驱体脉冲时间对PEALD沉积SiO2、HfO2单层性能的影响
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期刊： 作者：Chaoyi Yin; Meiping Zhu; Chen Song; Tingting Zeng; Nuo Xu; et al 出版日期：2019-07-08 |
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