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标题
Reactive Ion Etching of Molybdenum In CF4/O2 Plasma
CF4/O2等离子体中钼的反应离子刻蚀
相关领域
钼 X射线光电子能谱 材料科学 蚀刻（微加工） 分析化学（期刊） 反应离子刻蚀 氟 等离子体 等离子体刻蚀 图层（电子） 石墨 氟碳化合物 化学 化学工程 纳米技术 冶金 环境化学 复合材料 工程类 物理 量子力学
网址
https://doi.org/10.1557/proc-68-65
DOI
10.1557/proc-68-65 doi
其它 期刊：MRS Proceedings
作者：Seong-Ju Park; Chuan Sun; J. T. C. Yeh; J. Cataldo; N. Metropoulos
出版日期：1986-01-01
求助人
123 在 2025-06-05 12:12:17 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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