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Atomic layer deposition of titanium dioxide from TiCl4 and H2O: investigation of growth mechanism
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DOI
10.1016/s0169-4332(00)00842-4 doi
其它 期刊:Applied Surface Science
作者:Jaan Aarik; Aleks Aidla; Hugo Mändar; Teet Uustare
出版日期:2001-03-01
求助人
xiaoxiao 在 2026-04-23 09:57:39 发布自克罗地亚,悬赏 10 积分
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