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Some Insights into Atomic Layer Deposition of MoNx Using Mo(CO)6 and NH3 and Its Diffusion Barrier Application |
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期刊:Chemistry of Materials 作者:Tae Hyun Kim; Dip K. Nandi; Rahul Ramesh; Seung-Min Han; Bonggeun Shong; et al 出版日期:2019-09-26 |
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(2025-6-4)