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Robust, Uniform, and Highly Emissive Quantum Dot-Polymer Films and Patterns Using Thiol-Ene Chemistry |
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期刊:ACS Appl Mater Interfaces 作者:Smith MJ, Malak ST, Jung J, Yoon YJ, Lin CH, Kim S, Lee KM, Ma R, White TJ, Bunning TJ, Lin Z, Tsukruk VV 出版日期:2017-05-15 |
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