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 Van der Waals Epitaxy Growth and Characterization of 7:7:8 Commensurate Heterointerfaces between h-AlN and Two-Dimensional WS2/c-Al2O3 h-AlN与二维WS2/C-Al2O3 7：7：8等比例异质界面的范德华外延生长及表征
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期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Wei-Chun Chen; Mu‐Huan Lee; Kun An Chiu; Wei-Lin Wang; Yen-Teng Ho; et al 出版日期：2024-01-10 |
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