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  Quantum dot photolithography using a quantum dot photoresist composed of an organic–inorganic hybrid coating layer 基于有机——无机复合涂层的量子点光致抗蚀剂的量子点光刻
相关领域
光刻
光刻胶
材料科学
量子点
涂层
光电子学
纳米技术
图层（电子）
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期刊：Nanoscale Advances 作者：Seungmin Myeong; Bumsoo Chon; Samir Kumar; Ho‐Jin Son; Sang Ook Kang; et al 出版日期：2022-01-01 |
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