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 Improved Ferroelectric Switching Endurance of La-Doped Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films 掺La的Of0.5Zr0.5O2薄膜的铁电开关耐久性
相关领域
材料科学
兴奋剂
铁电性
薄膜
光电子学
电介质
纳米技术
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| 其它 |
期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Аnna G. Chernikova; Maxim G. Kozodaev; Dmitry Negrov; Е. В. Коростылев; Min Hyuk Park; et al 出版日期：2017-12-28 |
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