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![]() 新型二维MoSi2N4单层中本征点缺陷的化学环境稳定性、电子性质和扩散行为
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期刊:Applied Surface Science 作者:Hao Ma; Wen Zhao; Qian Zhang; Dongyuan Liu; Hao Ren; et al 出版日期:2022-08-01 |
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