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标题
Ion beam sputter deposited TiAlN films for metal–insulator–metal (Ba,Sr)TiO3 capacitor application
金属-绝缘体-金属（Ba，Sr）TiO3电容器用离子束溅射沉积TiAlN薄膜
相关领域
材料科学 溅射 电容器 扩散阻挡层 退火（玻璃） 金属绝缘体金属 复合材料 离子束辅助沉积 薄膜 电极 电流密度 溅射沉积 冶金 离子束 光电子学 图层（电子） 电气工程 离子 电压 纳米技术 化学 物理 工程类 有机化学 物理化学 量子力学
网址
http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2008.04.046
DOI
10.1016/j.tsf.2008.04.046 doi
求助人
xixi 在 2025-06-28 10:16:11 发布自浙江，悬赏 10 积分
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