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 ArF (193-nm) alternating aperture PSM quartz defect repair and printability for 100-nm node ArF（193-nm）交替孔径PSM石英缺陷修复和100-nm节点的可印刷性
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Jerry X. Chen; John F. Riddick; Matt J. Lamantia; Azeddine Zerrade; Robert Henderson; et al 出版日期：2002-03-11 |
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