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标题
An Optimized Device Structure with Improved Erase Operation within the Indium Gallium Zinc Oxide Channel in Three-Dimensional NAND Flash Applications
三维NAND闪存应用中铟镓锌氧化物沟道内具有改进擦除操作的优化器件结构
相关领域
材料科学 光电子学 氧化物 铟 半导体 频道（广播） 镓 带隙 宽禁带半导体 兴奋剂 闪存 电子工程 电气工程 计算机科学 冶金 工程类 操作系统
网址
https://www.mdpi.com/2079-9292/13/2/451/pdf?version=17059056...
AI链接 mdpi.com mdpi.comdoi.org
DOI
10.3390/electronics13020451 doi
其它 期刊：Electronics
作者：Seonjun Choi; Jin‐Seong Park; Myounggon Kang; Hong-sik Jung; Yun‐Heub Song
出版日期：2024-01-22
求助人
安详的凝竹 在 2025-08-26 02:32:44 发布，悬赏 10 积分
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