Etchant‐Free Dry‐Developable Extreme Ultraviolet Photoresist Materials Utilizing N‐Heterocyclic Carbene–Metal Complexes

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标题	Etchant‐Free Dry‐Developable Extreme Ultraviolet Photoresist Materials Utilizing N‐Heterocyclic Carbene–Metal Complexes 利用N-杂环卡宾-金属配合物的无蚀刻剂可干显影极紫外光致抗蚀剂材料
网址	https://doi.org/10.1002/smll.202407966
DOI	10.1002/smll.202407966 doi
其它	期刊：Small 作者：Dowon Kim; Jinhwan Byeon; Jaeboong Ahn; Sangjin Kim; In‐Uk Moon; et al 出版日期：2025
求助人	桑丘子在 2025-01-25 03:07:19 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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