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 Etch-stop mechanisms in plasma-enhanced atomic layer etching of silicon nitride: A molecular dynamics study 相关领域
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Jomar U. Tercero; Michiro Isobe; Kazuhiro Karahashi; Magdaleno R. Vasquez; Satoshi Hamaguchi 出版日期：2024-08-05 |
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