A Review: Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Silicon Carbide

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标题	A Review: Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Silicon Carbide 碳化硅的电感耦合等离子体反应离子刻蚀研究进展相关领域反应离子刻蚀蚀刻（微加工）材料科学感应耦合等离子体碳化硅干法蚀刻光电子学等离子体刻蚀纳米技术半导体硅等离子体冶金量子力学物理图层（电子）
网址	https://www.mdpi.com/1996-1944/15/1/123/pdf?version=16403552...
DOI	10.3390/ma15010123 doi
其它	期刊：Materials 作者：K. Racka-Szmidt; Bartłomiej Stonio; J. Żelazko; Maciej Filipiak; Mariusz Sochacki 出版日期：2021-12-24
求助人	小小怪将军在 2024-07-03 15:12:37 发布自江苏，悬赏 10 积分
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