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 Viable strategy to minimize trap states of patterned oxide thin films for both exceptional electrical performance and uniformity in sol–gel processed transistors 在溶胶——凝胶处理的晶体管中使图案化氧化物薄膜的陷阱态最小化以获得优异的电性能和均匀性的可行策略
相关领域
材料科学
薄膜晶体管
光电子学
氧化物
电容器
电介质
泄漏（经济）
铟
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期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Do Kyung Kim; Kyeong-Ho Seo; Dae-Hyeon Kwon; Sang-Hwa Jeon; Yu-Jin Hwang; et al 出版日期：2022-08-01 |
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