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 Oxidation dynamics of Cu thin film on Si surface by mass analyzed O+ ion implantation and study their electrical and optical properties 用O+离子注入质谱分析了硅表面Cu薄膜的氧化动力学及其电学和光学性质
相关领域
X射线光电子能谱
分析化学（期刊）
通量
氧化物
薄膜
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氧化铜
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铜
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化学
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期刊：Thin Solid Films 作者：Dipak Bhowmik; Joy Mukherjee; Prasanta Karmakar; Sudeep Bhattacharjee 出版日期：2023-11-25 |
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