Localized dielectric breakdown and antireflection coating in metal–oxide–semiconductor photoelectrodes

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标题	Localized dielectric breakdown and antireflection coating in metal–oxide–semiconductor photoelectrodes 金属氧化物半导体光电极的局域介电击穿与减反射膜相关领域材料科学光电子学腐蚀半导体涂层硅电介质绝缘体（电）氧化物图层（电子）纳米技术复合材料冶金
网址	https://doi.org/10.1038/nmat4801
DOI	10.1038/nmat4801 doi
其它	期刊：Nature Materials 作者：Ji Li; Hsien‐Yi Hsu; Xiaohan Li; Kai Huang; Ye Zhang; et al 出版日期：2016-11-07
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