| 标题 |
 Systematic studies of the effects of group-III dopants (La, Y, Al, and Gd) in Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectrics by ab initio simulations Hf0.5Zr 0.5 O2铁电体中III族掺杂（La、Y、Al和Gd）效应的从头计算系统研究
相关领域
掺杂剂
材料科学
兴奋剂
钝化
铁电性
从头算
空位缺陷
从头算量子化学方法
电介质
带隙
相（物质）
哈夫尼亚
凝聚态物理
光电子学
纳米技术
化学
陶瓷
冶金
立方氧化锆
物理
有机化学
图层（电子）
分子
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Applied Physics Letters 作者：Zhao Liang; Jirong Liu; Yi Zhao 出版日期：2021-10-25 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
斯寜
今天只做一件事
bc
827584450
zho
皖公网安备34019202002308
