Preparation of trinuclear phenols as components for photoresists

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标题	[高分] 专利、报告等 Preparation of trinuclear phenols as components for photoresists 作为光致抗蚀剂组分的三核酚的制备
网址	求助人暂未提供
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
其它	Patent Number： JP11130712
求助人	Genetrix 在 2024-11-06 09:27:03 发布自浙江，悬赏 50 积分
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Society for Industrial and Applied Mathematics (SIAM)

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1年前，求助关闭

Genetrix Lv4 求助人关闭了本次求助。

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1年前

Genetrix Lv4 求助人发起了本次求助

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