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Effects of LPCVD-deposited thin intrinsic silicon films on the performance of boron-doped polycrystalline silicon passivating contacts
LPCVD沉积本征硅薄膜对硼掺杂多晶硅钝化触头性能的影响
相关领域
材料科学 多晶硅 钝化 化学气相沉积 纳米晶硅 非晶硅 结晶 晶界 无定形固体 兴奋剂 晶体硅 光电子学 化学工程 纳米技术 复合材料 图层(电子) 微观结构 结晶学 薄膜晶体管 化学 工程类
网址
DOI
10.1016/j.solener.2023.112078 doi
其它 期刊:Solar Energy
作者:Yang Chen; Xianwei Meng; Jie Fan; Mingzhang Deng; Haoran Ye; et al
出版日期:2023-11-01
求助人
秋毫之末 在 2023-12-13 23:06:32 发布自安徽,悬赏 10 积分
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