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 Influence of the absorption layer on the pulsed laser (355 nm) annealing thermal budget during formation of Ni-based ohmic contacts on 4H-SiC substrate 吸收层对4H-SiC衬底上Ni基欧姆接触形成过程中脉冲激光（355nm）退火热收支的影响
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Jianwen Ding; Xing-Yue Li; Kaiming Yang; Yu Zhu; Jing Chen; et al 出版日期：2022-02-14 |
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