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Comparative Study on the Structural and Electrical Properties of Low-bftextitk SiOC(-H) Films Deposited by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 相关领域
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期刊:Journal of the Korean Physical Society 作者:Anvar Zakirov; R. Navamathavan; Yong Jun Jang; An Soo Jung; Kwang-Man Lee; et al 出版日期:2007-06-15 |
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