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![]() 在HF:HCl:C2H5 OH:H2O2:H2O电解质中脉冲阳极蚀刻n+-硅衬底制备的独立多孔硅膜:秋水仙碱的表征和吸附
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期刊:Silicon 作者:M. Naddaf; Rami A. Jarjour 出版日期:2020-05-04 |
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