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![]() 四甲基氢氧化铵作为蚀刻剂的独立硅微锥形成动力学研究
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期刊:Materials Science in Semiconductor Processing 作者:Shreyan Mondal; Pranav Sairam Kalaga; P.S Sankara Rama Krishnan; D. S. Ang 出版日期:2023-01-26 |
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