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 Digital etching of AlGaN/GaN heterostructures with GaN cap using inductively coupled oxygen plasma process combined with wet chemical treatment 采用电感耦合氧等离子体工艺结合湿化学处理的GaN帽AlGaN/GaN异质结构数字刻蚀
相关领域
材料科学
感应耦合等离子体
异质结
蚀刻（微加工）
光电子学
等离子体
氧气
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干法蚀刻
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Jong-Hee Kim; Hyeon‐Cheol Kim; Hyeon-Yeong Jeong; V. Janardhanam; A. Ashok Kumar; et al 出版日期：2024-06-17 |
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