蚀刻（微加工）
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等离子体
制作
图层（电子）
替代医学
病理
物理
医学
量子力学
作者
Bo Shen,Di Hu,Cuihua Dai,Xiaoyang Yu,Xiaojun Tan,Jie Sun,Jun Jiang,Anquan Jiang
出处
期刊：Nanomaterials
[Multidisciplinary Digital Publishing Institute]
日期：2023-10-18
卷期号：13 (20): 2789-2789
被引量：17
摘要
masks, a high etching rate of 108 nm/min and an etching selectivity ratio of 0.86:1 were achieved. Distinct etching conditions yielded diverse yet exceptional results, providing multiple processing paths of etching for the versatile application of LNO.
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