| 标题 |
Etching Characteristics and Mechanisms of TiO2 Thin Films in CF4 + Ar, Cl2 + Ar and HBr + Ar Inductively Coupled Plasmas |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者:Junmyung Lee; Alexander Efremov; Byung Jun Lee; Kwang-Ho Kwon 出版日期:2016-08-02 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)