Excellent silicon surface passivation with 5 Å thin ALD Al2O3 layers: Influence of different thermal post‐deposition treatments

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标题	Excellent silicon surface passivation with 5 Å thin ALD Al2O3 layers: Influence of different thermal post‐deposition treatments
网址	https://doi.org/10.1002/pssr.201105188
DOI	10.1002/pssr.201105188 doi
其它	期刊：Physica Status Solidi (rrl) 作者：Armin Richter; Jan Benick; Martin Hermle; Stefan W. Glunz 出版日期：2011-05-11
求助人	机智的璐璐在 2026-07-20 20:14:12 发布自陕西，悬赏 10 积分
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