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标题
PFAS free materials and resist for ArF immersion photolithography
用于ArF浸没光刻的不含PFAS的材料和抗蚀剂
相关领域
抵抗 光刻 浸没式光刻 沉浸式（数学） 材料科学 计算机科学 纳米技术 光电子学 数学 图层（电子） 纯数学
网址
https://doi.org/10.1117/12.3047953
DOI
10.1117/12.3047953 doi
其它 期刊：
作者：Yuzuru Kaneko; Tomokazu Masubuchi; Kazuki Yoshiura; K. Hagiwara; Yuji Hagiwara; et al
出版日期：2025-04-22
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文艺香菱 在 2025-08-21 09:45:44 发布自北京，悬赏 20 积分
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