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 Investigation of the impact of amorphous silicon layers deposited by PECVD and HDP-CVD on oxide precipitation in silicon PECVD和HDP-CVD沉积非晶硅层对硅中氧化物析出影响的研究
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：G. Kissinger; Dawid Kot; Florian Bärwolf; Marco Lisker 出版日期：2023-09-01 |
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