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Breakdown phenomena of zirconium-doped hafnium oxide high-k stack with an inserted interface layer 具有插入界面层的锆掺杂氧化铪高k堆叠的击穿现象
相关领域
铪
堆栈(抽象数据类型)
材料科学
锆
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Wen Luo; Tao Yuan; Yue Kuo; Jiang Lu; Jiong Yan; et al 出版日期:2006-08-14 |
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