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 Lanthanum doped hafnium oxide thin films deposited on a lateral high aspect ratio structure using atomic layer deposition: A comparative study of surface composition and uniformity using x-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry 使用原子层沉积在横向高纵横比结构上沉积镧掺杂氧化铪薄膜：使用x射线光电子能谱和飞行时间二次离子质谱对表面成分和均匀性的比较研究
相关领域
X射线光电子能谱
原子层沉积
镧
兴奋剂
材料科学
沉积（地质）
图层（电子）
薄膜
氧化镧
氧化物
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化学
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期刊：Applied Surface Science 作者：Jennifer Emara; Alireza M. Kia; Sascha Bönhardt; Clemens Mart; Kati Kühnel; et al 出版日期：2024-10-01 |
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